表面声波沟槽谐振器的制作工艺
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
本发明的要点在于对制作SAW器件的光刻、套刻和镀膜的工艺过程中，采用了去离子水、橡皮泥球、通入纯氧和烘烤的步骤，这就可以减少了紫外线在掩膜板与基片界面上的光反射和光折射，使得掩模版与基片得到良好的支撑和吻合，提高了除气去污的能力，从而提高了光刻分辨率、套刻的精度，保证了镀膜的质量。
基本信息
专利标题 ：
表面声波沟槽谐振器的制作工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85100717A
申请号 ：
CN85100717.1
公开（公告）日 ：
1986-08-06
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
CN85100717B
授权日 ：
1987-12-09
发明人 ：
周先明
申请人 ：
中国科学院声学研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村路5号
代理机构 ：
中国科学院声学研究所专利办公室
代理人 ：
刘文意
优先权 ：
CN85100717.1
主分类号 ：
H03H3/08
IPC分类号 ：
H03H3/08
法律状态
1991-08-28 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1987-12-09 ：
审定
1986-08-06 ：
公开
1986-07-09 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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