流体辅助的离子投射打印头
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
一种改进的流体辅助的离子投射打印头包括一个带有设计特征的一体件的体部，它包括一个大致呈U形的空腔，以配合一个普通的大致平坦的导电件，导电件形成空腔的大部分开口的封盖并限定一个离子发生室和一个空腔出口区，靠近出口区的空腔的至少一个壁是导电的。支持在体部上的一报导线沿着空腔方向延伸并定位在靠近该至少一个壁和导电件处而较远离空腔的其他的壁。
基本信息
专利标题 ：
流体辅助的离子投射打印头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86108329A
申请号 ：
CN86108329.6
公开（公告）日 ：
1987-06-17
申请日 ：
1986-12-03
授权号 ：
CN1009862B
授权日 ：
1990-10-03
发明人 ：
尼古拉斯·K·谢里登格哈特·K·桑徳
申请人 ：
施乐公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
彬长安
优先权 ：
CN86108329.6
主分类号 ：
G01D15/06
IPC分类号 ：
G01D15/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01D
非专用于特定变量的测量；不包含在其他单独小类中的测量两个或多个变量的装置；计费设备；非专用于特定变量的传输或转换装置；未列入其他类目的测量或测试
G01D15/00
非专用于特定变量的测量装置的记录器的组件
G01D15/06
电记录元件，如电解式的
法律状态
2002-01-23 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1991-06-19 ：
授权
1990-10-03 ：
审定
1989-04-05 ：
实质审查请求
1987-06-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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