超导薄膜的制作方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明是关于一种超导薄膜的制作方法。其特征是将含有从钇(Y)、镧(La)、钆(Gd)、钬(Ho)、铒(Er)、镱(Yb)组成的一组元素中选择的一种元素M、钡和铜氧化物的混合物或者复合氧化物作为靶进行物理汽相淀积，形成钙钛矿型或类钙钛矿型的氧化物薄膜。上述靶可由预烧结材料制成，物理汽相淀积可用高频溅射技术进行。对形成的薄膜，可以进一步在250-1700℃，最好在250-1200℃的温度范围内进行热处理。
基本信息
专利标题 ：
超导薄膜的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN88102025A
申请号 ：
CN88102025.7
公开（公告）日 ：
1988-10-26
申请日 ：
1988-03-14
授权号 ：
CN1024966C
授权日 ：
1994-06-08
发明人 ：
藤田顺彦藤森直治系崎秀夫田中三郎原田敬三上代哲治
申请人 ：
住友电气工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪市
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
赵蓉民
优先权 ：
CN88102025.7
主分类号 ：
H01B12/06
IPC分类号 ：
H01B12/06 H01L39/12
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
H01B12/00
超导或高导导体、电缆或传输线
H01B12/02
按其形状区分的
H01B12/06
在基体上或线芯上的薄膜或线
法律状态
2005-05-11 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 ：
其他有关事项
1994-06-08 ：
授权
1990-05-30 ：
实质审查请求
1988-10-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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