微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种微波等离子体增强冷阴极电弧渗镀涂层的装置及工艺属于等离子表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，引入一个微波ECR源，在真空电弧放电作用下从金属冷阴极电弧源发射出的高能量高离化率的金属粒子(离子、原子、分子等)，在微波ECR等离子体放电产生的高密度等离子体的作用下，得到进一步的离解活化，能量得到提高，与反应气体的化合过程得到加强，提高涂层沉积速度的同时，增强涂层与基底的结合能力，在工件表面快速获得碳、氮化合物硬质涂层。
基本信息
专利标题 ：
微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1775997A
申请号 ：
CN200510048154.9
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
贺琦潘俊德徐重
申请人 ：
太原理工大学
申请人地址 ：
030024山西省太原市迎泽西大街79号
代理机构 ：
太原市科瑞达专利代理有限公司
代理人 ：
庞建英
优先权 ：
CN200510048154.9
主分类号 ：
C23C14/00
IPC分类号 ：
C23C14/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
法律状态
2010-01-27 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-06-18 ：
授权
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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