由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
在有机聚合物基材的表面上通过大气压辉光放电沉积制备多层涂层的方法，方法的步骤包括沉积等离子体聚合的、光学透明的有机硅化合物的层(第一层)和其后在第二步骤中将聚合物硅氧烷或硅氧化物化合物的基本均匀层(第二层)沉积到该第一层的曝露表面上，其中多层涂层的厚度为至少2.0μm，和耐磨性展示在500次Tabor循环之后，根据ASTM D 1044，CS10F轮，500g重物测量的变化小于或等于20Δ雾度单位。
基本信息
专利标题 ：
由等离子体增强化学气相沉积的耐磨涂层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048533A
申请号 ：
CN200580037209.4
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·M·加贝尔尼克C·A·兰伯特J·M·瓦拉科姆斯基L·M·阿尔特斯
申请人 ：
陶氏环球技术公司
申请人地址 ：
美国密歇根州
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
程伟
优先权 ：
CN200580037209.4
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C08J7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2010-12-29 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101058191765
IPC(主分类) : C23C 16/50
专利申请号 : 2005800372094
公开日 : 20071003
号牌文件序号 : 101058191765
IPC(主分类) : C23C 16/50
专利申请号 : 2005800372094
公开日 : 20071003
2007-12-26 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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