一种等离子体增强化学气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型属于化学气相沉积装置领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括反应腔室，所述反应腔室的左侧设置有观察窗，所述反应腔室的右侧固定连接有出气通道，所述出气通道的下端固定连接有抽气单元，所述反应腔室的下端通过螺栓安装有底盖，所述底盖内转动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的上端通过螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的上端固定连接有下电极板，所述下电极板的上端固定连接有待沉积基板。本实用新型通过在进气通道末端安装通气筒，通气筒内设计过滤网和干燥剂，通气筒末端设计筒盖和接头，可对输入的气体进行过滤和干燥，使得气体洁净且干燥，降低气体对电极板的损伤，使得设备的使用寿命更长。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子体增强化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020838036.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-19
授权号 ：
CN212451627U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
朱双林李春敏马国忠胡人文王恩强黄道平沈伟
申请人 ：
苏州索科特新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市张浦镇欣合路6号1幢
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020838036.8
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/50 B01D46/10 B01D53/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
