一种微结构及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种微结构包括一基板以及一光致抗蚀剂层。该基板具有一表面，而该光致抗蚀剂层设置于该基板的该表面上并具有至少一凹部，该凹部具有一侧壁、一深度与一宽度。其中，该侧壁的倾斜角度不小于5度，且该深度与该宽度的比值不小于2。
基本信息
专利标题 ：
一种微结构及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1935627A
申请号 ：
CN200510103765.9
公开（公告）日 ：
2007-03-28
申请日 ：
2005-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蔡欣昌张育儒邢泰刚
申请人 ：
台达电子工业股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510103765.9
主分类号 ：
B81B7/00
IPC分类号 ：
B81B7/00 B81C1/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81B
微观结构的装置或系统，例如微观机械装置
B81B7/00
微观结构系统
法律状态
2010-11-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101043681551
IPC(主分类) : B81B 7/00
专利申请号 : 2005101037659
公开日 : 20070328
号牌文件序号 : 101043681551
IPC(主分类) : B81B 7/00
专利申请号 : 2005101037659
公开日 : 20070328
2007-05-23 ：
实质审查的生效
2007-03-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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