用于制造毫微结构的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种用于制造毫微结构的方法，其中可以制成直径在纳米级(nm)、直径象锥形形状那样递减的孔(3)。该方法包括如下交替步骤的重复循环：在阳极氧化步骤中将铝或铝合金阳极氧化以便形成具有孔(3)的阳极氧化膜(2)和在孔变宽步骤中增大孔(3)直径，以使孔(3)的直径在深度方向上变化。
基本信息
专利标题 ：
用于制造毫微结构的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1754824A
申请号 ：
CN200510107052.X
公开（公告）日 ：
2006-04-05
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松尾康弘石部芳浩木村一己野村健太郎
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
张浩
优先权 ：
CN200510107052.X
主分类号 ：
B82B3/00
IPC分类号 ：
B82B3/00 C25D11/04
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B82
超微技术
B82B
通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合而形成的纳米结构；其制造或处理
B82B3/00
通过操纵单个原子、分子或作为孤立单元的极少量原子或分子的集合的纳米结构的制造或处理
法律状态
2009-11-04 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-05-31 ：
实质审查的生效
2006-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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