具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R1选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R2为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R3为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R4选自氢(H)、甲基(CH3)、三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R5选自三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR12为OH或者选自叔烷基
基本信息
专利标题 ：
具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782876A
申请号 ：
CN200510115296.2
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·霍伊贾斯坦P·R·瓦拉纳斯李文杰陈光荣K·S·帕特尔
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林柏楠
优先权 ：
CN200510115296.2
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 G03F7/028
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2020-10-30 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/039
申请日 : 20051111
授权公告日 : 20091118
终止日期 : 20191111
申请日 : 20051111
授权公告日 : 20091118
终止日期 : 20191111
2017-11-24 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/039
登记生效日 : 20171106
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更后权利人 : 格芯公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 开曼群岛大开曼岛
登记生效日 : 20171106
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更后权利人 : 格芯公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 开曼群岛大开曼岛
2017-11-24 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/039
登记生效日 : 20171106
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 国际商业机器公司
变更后权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 美国纽约
登记生效日 : 20171106
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 国际商业机器公司
变更后权利人 : 格芯美国第二有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国纽约
变更后权利人 : 美国纽约
2009-11-18 ：
授权
2006-08-02 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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