垂直腔面发射激光器及其制造方法
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摘要

本发明涉及一种垂直腔面发射激光器及其制造方法。本发明的所述垂直腔面发射激光器包括:一衬底、一第一反射器、一活性层、一第二反射器、一第一电极层和一第二电极层。所述第二反射器具有一第一孔径的第一限制层,和一有一第二孔径的第二限制层。所述第二孔径小于所述第一孔径。根据本发明,由于所述第二限制层以下列方式形成:将氧离子注入所述第二反射器并进行加热,以使得所述氧离子与所述第二反射器内的铝成分反应而形成氧化层,因而,所述第二限制层可用作一光学和电子限制层。因此,可精确且容易地实现所述第二限制层的宽度和厚度。

基本信息
专利标题 :
垂直腔面发射激光器及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1901299A
申请号 :
CN200510115686.X
公开(公告)日 :
2007-01-24
申请日 :
2005-11-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赖利弘赖利温
申请人 :
海德威电子工业股份有限公司;禧通科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘国伟
优先权 :
CN200510115686.X
主分类号 :
H01S5/183
IPC分类号 :
H01S5/183  
法律状态
2013-11-06 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更后 : 海德威电子工业股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾
变更后 : 中国台湾
变更事项 : 专利权人
变更前 : 禧通科技股份有限公司
变更后 : 华立捷科技股份有限公司
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101669311394
IPC(主分类) : H01S 5/183
专利号 : ZL200510115686X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 海德威电子工业股份有限公司
2008-10-15 :
授权
2007-03-21 :
实质审查的生效
2007-01-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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