等离子反应室
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本发明涉及等离子反应室,包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的内门。所述内门连接有传动机构,该传动结构包括与内门连接的至少两个焊接波文管,各焊接波纹管的中部通过法兰盘安装在密封定位板上,其另一端与导杆连接块连接,在密封定位板4的上方设置有套装在焊接波纹管上的定位机构,在密封定位板4与导杆连接块之间设置有气缸,该气缸固定安装在密封定位板上。该反应室可广泛应用于半导体设备或其他需密封的设备中,实现了内门与内衬的机械限位,机构使用过程中减少了颗粒产生的途径,有效控制颗粒污染;简单的结构,有效地提高内门传动机构使用寿命及稳定性,降低使用成本;焊接波纹管技术成熟,稳定性高,使用寿命长。

基本信息
专利标题 :
等离子反应室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1848367A
申请号 :
CN200510126278.4
公开(公告)日 :
2006-10-18
申请日 :
2005-12-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
彭宇霖
申请人 :
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请人地址 :
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
司君智
优先权 :
CN200510126278.4
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  H01L21/205  H01L21/3065  H01L21/67  C23C16/44  C23C14/56  C23F4/00  H01J37/32  H05H1/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2018-08-17 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/00
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更后 : 北京北方华创微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后 : 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
2008-06-25 :
授权
2006-12-13 :
实质审查的生效
2006-10-18 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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