等离子体反应设备

授权

摘要

本实用新型涉及一种等离子体反应设备，设备包括工作台、反应仓、真空模组、送气模块、射频模组及驱动件。反应仓可转动地装配于工作台，且具有反应腔，可以在反应腔内放置需要处理的物料，例如粉体物料。真空模组对反应腔抽真空，在反应腔内形成真空环境；送气模块向反应腔输送气体，射频模组围设于反应仓外周，向反应腔发射射频波，使反应腔内送入的气体发生电离形成等离子体来处理放置在反应仓内的物料，以改变物料表面的性能；驱动件对反应仓提供旋转驱动力，反应仓在驱动件的驱动下相对工作台转动，以使粉末状物料可以在反应仓内翻转同时与射频电离后的等离子体充分接触，可以对粉末状物料均匀地进行表面处理，提高处理效果。

基本信息

专利标题：

等离子体反应设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020384604.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-24

授权号：

CN211828678U

授权日：

2020-10-30

发明人：

王双印陶李

申请人：

湖南大学

申请人地址：

湖南省长沙市岳麓区湖南大学老化工楼131办公室

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

刘佩

优先权：

CN202020384604.1

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32