用于制造薄膜的装置的基座
发明专利申请公布后的驳回
摘要

一种用于在一衬底上制造一薄膜的装置的基座包括:一由其下的一支撑件支撑的主体;一在所述主体的一顶部表面处的铺设槽;一在所述铺设槽中的温度调节器;和一覆盖所述铺设槽的盖子。

基本信息
专利标题 :
用于制造薄膜的装置的基座
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1789490A
申请号 :
CN200510130584.5
公开(公告)日 :
2006-06-21
申请日 :
2005-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
权永春
申请人 :
周星工程股份有限公司
申请人地址 :
韩国京畿道
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王允方
优先权 :
CN200510130584.5
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513  C23C16/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2013-08-21 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101653257096
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利申请号 : 2005101305845
申请公布日 : 20060621
2008-02-13 :
实质审查的生效
2006-06-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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