可展现较均匀沉积及降低旋转不对称性的多轨道磁控管
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

一种多轨道磁控管,具有一回旋形状且不对称于它所围绕旋转的标靶中心(14)。一等离子体轨道(166)被形成为一介于相反的内磁极(162)与外磁极(164)之间的闭环,最好是被形成为两圈或者三圈径向分布并呈螺旋形状相对于该靶材中心的反方向延伸的轨道,且最好通过该旋转轴。磁极形状可被最优化以产生一遵守L=arn函数的累积轨道长度分布。在使用计算机最优化的多次迭代之后,该磁极形状可用在制造好的极靴中的不同的磁铁分布来测试溅射均匀性,如果该均匀性仍然不满足要求的话,用不同的n值,不同的轨道数,或不同的磁极宽度来重复设计迭代。该最优化减小了方位角侧壁的不对称性,并改善了径向沉积均匀性。

基本信息
专利标题 :
可展现较均匀沉积及降低旋转不对称性的多轨道磁控管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1997768A
申请号 :
CN200580013582.6
公开(公告)日 :
2007-07-11
申请日 :
2005-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
宏·S·杨则敬·龚雷建新铁·郭
申请人 :
应用材料股份有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 :
徐金国
优先权 :
CN200580013582.6
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2012-02-08 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101276323109
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL2005800135826
变更事项 : 专利权人
变更前 : 应用材料股份有限公司
变更后 : 应用材料公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
2011-04-27 :
授权
2008-02-20 :
实质审查的生效
2007-07-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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