利用等离子体涂布基底的方法
专利权的终止
摘要
通过在自由基引发剂存在下，等离子体处理包括含具有一个或多个可自由基聚合基团的自由基引发的可聚合单体的混合物，其中所述等离子体处理是软电离等离子体工艺(其中前体分子在等离子体工艺过程中没有碎裂，结果所得聚合物涂层具有前体或者本体聚合物的物理性能的工艺)，和在基底表面上沉积所得聚合物涂层材料，在基底表面上形成聚合物涂层的方法。
基本信息
专利标题 ：
利用等离子体涂布基底的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101048237A
申请号 ：
CN200580036906.8
公开（公告）日 ：
2007-10-03
申请日 ：
2005-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
L·奥尼尔L·A·奥黑尔A·J·古德温
申请人 ：
陶氏康宁爱尔兰有限公司
申请人地址 ：
爱尔兰科克
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
张钦
优先权 ：
CN200580036906.8
主分类号 ：
B05D3/14
IPC分类号 ：
B05D3/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理；已有涂层的后处理，例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/14
电的方法
法律状态
2017-11-24 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B05D 3/14
申请日 : 20051012
授权公告日 : 20120502
终止日期 : 20161012
申请日 : 20051012
授权公告日 : 20120502
终止日期 : 20161012
2012-05-02 ：
授权
2007-11-28 ：
实质审查的生效
2007-10-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
