制造发光阵列的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开一种制造发光阵列的方法，该方法使用精确成形的图案化磨料研磨光学材料。一种或多种图案化磨料沿着光学材料的一个或多个相交轴线与光学材料接触和研磨。将所得到的精确成形并定位的光学元件与光源阵列对准和粘结。
基本信息
专利标题 ：
制造发光阵列的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101088177A
申请号 ：
CN200580044773.9
公开（公告）日 ：
2007-12-12
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安德鲁·J·欧德科克凯瑟琳·A·莱瑟达尔奥勒斯特尔·小本森
申请人 ：
3M创新有限公司
申请人地址 ：
美国明尼苏达州
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
顾红霞
优先权 ：
CN200580044773.9
主分类号 ：
H01L33/00
IPC分类号 ：
H01L33/00 F21V7/00 B24B13/02 G02B17/00 H01L25/075
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-12-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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