台架控制设备和方法，台架设备和曝光设备

专利权的终止

摘要

一种用于控制在其上可放置并移动基片的台架的台架控制设备，其基于对应于基片表面不均匀性的基片表面位置信息产生与台架垂直方向相关的目标值，并基于所产生的目标值与测量的台架位置之间的偏差信号产生台架的驱动命令信号。基于由基片表面不均匀性所具有的空间频率决定目标频率。为了产生该驱动命令信号，使用通过放大偏差信号的目标频率的分量所获得的信号。

基本信息

专利标题：

台架控制设备和方法，台架设备和曝光设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1818793A

申请号：

CN200610004770.9

公开（公告）日：

2006-08-16

申请日：

2006-02-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

森贞雅博

申请人：

佳能株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王萍

优先权：

CN200610004770.9

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2017-03-29 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101709358340
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006100047709
申请日 : 20060210
授权公告日 : 20090204
终止日期 : 20160210

2009-02-04 ：

授权

2006-10-11 ：

实质审查的生效

2006-08-16 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN100458570C.PDF

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2、

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