固态成像装置及其制造方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种固态成像装置及其制造方法。所述固态成像装置，包括：半导体衬底，其上形成有具有光接收部分的成像区；和通过使用包含金属元素的液体的平面化处理而形成于半导体衬底上的预定层，其中，至少第一扩散保护膜形成于光接收部分和预定层之间。
基本信息
专利标题 ：
固态成像装置及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1819251A
申请号 ：
CN200610005733.X
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
渡辺慎也
申请人 ：
索尼株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610005733.X
主分类号 ：
H01L27/146
IPC分类号 ：
H01L27/146 H01L21/822
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法律状态
2017-03-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705823215
IPC(主分类) : H01L 27/146
专利号 : ZL200610005733X
申请日 : 20060106
授权公告日 : 20090218
终止日期 : 20160106
号牌文件序号 : 101705823215
IPC(主分类) : H01L 27/146
专利号 : ZL200610005733X
申请日 : 20060106
授权公告日 : 20090218
终止日期 : 20160106
2009-02-18 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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