头孢替唑三位中间体的制备方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种抗菌药物头孢替唑三位中间体的一种新的制备方法,具体为头孢替唑三位中间体的制备方法。其特点是:一种溶媒做溶剂,加入三氟化硼进行络合,在溶媒作溶剂中,加入络合物、7-氨基-3-乙酰氧基甲基-3-头孢烯-4-羧酸(简称7-ACA)、和1.3.4-噻二唑-2-巯基杂环(简称MTD),制得(6R,7R)-3-[[(1,3,4-噻二唑-2-基)硫]甲基]-8-氧代-5-硫杂-1-氮杂双环[4.2.0]辛-2-烯-2-羧酸(简称TZT);化学反应方程式如上式,两步反应合成了头孢替唑三位中间体(TZT):一、溶媒化合物(I)和三氟化硼,在一定温度下进行反应的到化合物(II)。二、在以溶媒作溶剂的情况下,加入化合物(II)、化合物(III)MTD和化合物(IV)7-ACA。

基本信息
专利标题 :
头孢替唑三位中间体的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1803803A
申请号 :
CN200610009611.8
公开(公告)日 :
2006-07-19
申请日 :
2006-01-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金乃岩朱彦民王喜军王洪珊郭云波景士云李玉娟牟春福
申请人 :
哈药集团制药总厂
申请人地址 :
150086黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路109号
代理机构 :
哈尔滨市哈科专利事务所有限责任公司
代理人 :
刘庆吉
优先权 :
CN200610009611.8
主分类号 :
C07D501/04
IPC分类号 :
C07D501/04  C07D501/16  A61P31/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D501/00
杂环化合物,含有5-硫杂-1-氮杂双环辛烷环系,即含下式环系的化合物:,例如,头孢菌素;这种环系进一步稠合,例如与1个含氧或氮的杂环在2,3位稠合
C07D501/02
制备
C07D501/04
从已含有此环系或稠环系的其他化合物,例如由环系的脱氢化,取代基的引入、消除或改变
法律状态
2008-03-19 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-09-13 :
实质审查的生效
2006-07-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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