基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置
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摘要
一种基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置，该装置包括傅立叶变换红外光谱测量系统、作为泵浦光源的激光器、以及联结傅立叶变换红外光谱仪中探测器与电路控制板的锁相放大器和低通滤波器，置于样品与激光器之间光路上的斩波器，从而使连续泵浦激光变为调制激光，并馈入锁相放大器的输入参考端来控制锁相。该方法使用上述装置进行光调制反射光谱测量，包括消除泵浦光的漫反射信号以及泵浦光产生的光致发光信号的干扰；消除傅立叶频率和增强中、远红外波段微弱光信号的探测能力三个功能。经过对分子束外延生长GaNxAs1－x/ GaAs单量子阱样品和Ga1－xInxP/AlGaInP多量子阱材料的光调制反射光谱实际测试。表明：本发明显著提高探测灵敏度和光谱信噪比，并具有快速、便捷的优点，特别适用于中、远红外光电材料微弱光
基本信息
专利标题 ：
基于步进扫描的光调制反射光谱方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804583A
申请号 ：
CN200610023427.9
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2006-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邵军陆卫吕翔越方禹李志锋郭少令褚君浩
申请人 ：
中国科学院上海技术物理研究所
申请人地址 ：
200083上海市玉田路500号
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
田申荣
优先权 ：
CN200610023427.9
主分类号 ：
G01N21/27
IPC分类号 ：
G01N21/27 G06F17/14 G02F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/27
利用光电检测
法律状态
2009-03-04 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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