光谱测量装置
授权
摘要
本发明公开光谱测量装置(1)，用于过程自动化系统的测量点，包括：宽带光源(2)，其用于通过入口光圈(7)将光辐射到待测量的样品(9)上，其中光的光束形成照射平面(x‑y)；限光器(5)，其将光限制为与所述照射平面(x‑y)成一定角度，特别是90°，由此在该角度下产生不同量的光；色散元件(4)，其用于根据光的波长分离光；和检测器(3)，其用于接收根据光的波长分离的光，其中所述光源(2)将光发送通过样品(9)射向所述入口孔(7)、限光器(5)和色散元件(4)，并且光照射到所述检测器(3)，其中所述检测器(3)被设计为二维检测器并且被定向成使得能够以所述角度，即，特别是90°接收光。
基本信息
专利标题 ：
光谱测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109799194A
申请号 ：
CN201811266516.5
公开（公告）日 ：
2019-05-24
申请日 ：
2018-10-29
授权号 ：
CN109799194B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
比约恩·哈斯约阿希姆·博勒
申请人 ：
恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
申请人地址 ：
德国盖林根
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
蔡石蒙
优先权 ：
CN201811266516.5
主分类号 ：
G01N21/25
IPC分类号 ：
G01N21/25
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2019-06-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/25
申请日 : 20181029
申请日 : 20181029
2019-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
