一种铌酸锂晶片光刻甩胶真空吸头
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种铌酸锂晶片光刻甩胶真空吸头,其真空吸头为一体成型,包括:用于吸附晶片的一吸盘,该吸盘的大小形状与晶片适配,吸盘既可是圆形也可是矩形,其表面设有通孔和凹槽;所述吸盘下部设有与电机旋转轴连接的一轴颈,该轴颈与电机旋转轴的轴心连通真空系统,使晶片下表面与吸盘上表面之间形成真空吸附,所述吸盘的四周边缘固定连接有多个防止晶片离心飞出的挡块,这样就避免了甩胶过程中由于离心力的作用铌酸锂材料的晶片向外飞出打碎,从而可有效保证晶片甩胶的高成品率。在进行4英寸圆晶片或矩形晶片的甩胶时,只需更换相应真空吸头即可。

基本信息
专利标题 :
一种铌酸锂晶片光刻甩胶真空吸头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620017500.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-06-15
授权号 :
CN2914146Y
授权日 :
2007-06-20
发明人 :
杨彦伟李建国杨文宗唐宗敏
申请人 :
深圳飞通光电子技术有限公司
申请人地址 :
518057广东省深圳市高新技术产业园南区科技南十二路飞通大厦
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200620017500.7
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2016-07-27 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101672087141
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2006200175007
申请日 : 20060615
授权公告日 : 20070620
终止日期 : 无
2007-06-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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