膜层光谱的实时测量装置
专利权的终止
摘要

一种用于镀膜过程中在线的膜层光谱的实时测量装置,该测量装置包括一光学膜厚监控系统,其特征在于还有一计算机,该计算机有两个RS232标准串口,第一串口接所述的光学膜厚监控系统的单色仪,第二串口接所述的光学膜厚监控系统的锁相放大器,所述的计算机与所述的单色仪和所述的锁相放大器进行通讯,按设定的扫描控制程序采集数据并进行数据处理。本实用新型可以在线获得已镀膜层在不同波长的透过率,即获得已镀膜层在一定波段范围内的光学特性曲线,由此可预知镀膜效果,从而对镀膜过程进行评价和指导。

基本信息
专利标题 :
膜层光谱的实时测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620043654.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-07-05
授权号 :
CN2916622Y
授权日 :
2007-06-27
发明人 :
高慧慧朱美萍肖连君易葵范正修
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200620043654.3
主分类号 :
G01N21/17
IPC分类号 :
G01N21/17  G01B11/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
法律状态
2010-10-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101006307065
IPC(主分类) : G01N 21/17
专利号 : ZL2006200436543
申请日 : 20060705
授权公告日 : 20070627
2007-06-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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