离子注入机的一维机械扫描装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型公开了一种离子注入机的一维机械扫描装置，包括靶台、伺服电机和线性运动推动机构，线性运动推动机构的连杆和摆动扫描从动臂的两端分别与靶台和固定座活动连接，构成平行四边形，摆动扫描从动臂的固定座一端与摆动扫描驱动臂的一端固定连接，摆动扫描驱动臂的另一端与线性驱动机构活动连接，线性驱动机构通过丝杆副与伺服电机连接。本实用新型消除了机械扫描对系统真空的影响，具有结构简单，成本低，扫描精准度高的特点。
基本信息
专利标题 ：
离子注入机的一维机械扫描装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620113052.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-04-24
授权号 ：
CN2913387Y
授权日 ：
2007-06-20
发明人 ：
彭立波戴习毛钟新华袁卫华
申请人 ：
北京中科信电子装备有限公司
申请人地址 ：
100036北京市海淀区复兴路乙20号汇通商务楼北门44号办公楼2层东段
代理机构 ：
北京中海智圣知识产权代理有限公司
代理人 ：
曾永珠
优先权 ：
CN200620113052.0
主分类号 ：
C23C14/48
IPC分类号 ：
C23C14/48 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/48
离子注入
法律状态
2009-04-08 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2009311
2007-06-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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