离子束流密度和能量的同步测量装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种用于离子源的离子束流密度和能量的同步测量装置,采用磁屏蔽材料制成圆柱形采集筒,在该圆柱形采集筒内设置离子过滤器,在该采集筒的侧壁上及所述的离子过滤器的半圆形和三角形的斜边连接处采用磁屏蔽材料设一引流孔,在离子过滤器的半圆形位置设置碗形电子接收器,在离子过滤器的等腰直角三角形的直角边和斜边位置处设置片状阳离子接收器,该离子过滤器接地而与阳离子接收器和电子接收器绝缘,在该采集筒内两个端面分别设置电磁线圈,该两电磁线圈与该采集筒外的可调恒压直流电源相连,所述的阳离子接收器经第一电阻和第一毫安表接地,所述的电子接收器经第二电阻和第二毫安表接地。本实用新型装置使用简单,操作方便,实用性强。

基本信息
专利标题 :
离子束流密度和能量的同步测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720075175.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-29
授权号 :
CN201102984Y
授权日 :
2008-08-20
发明人 :
王聪娟晋云霞邵建达
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200720075175.4
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2009-07-29 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007929
2008-08-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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