本实用新型公开了一种斐索干涉仪检测工作台，旨在提供一种检测平面光学元件面形配套设备。它包括承载台、工件支架和检测底座，承载台上设有导轨，工件支架的底部设有滑动滚珠。本实用新型使工件的恒温等待过程和检测过程分离，实现了工件的连续检测，大大提高了检测效率，较原始的检测效率提高了4－5倍，提高了光学元件的生产效率。本实用新型适合大口径斐索干涉仪检测大型平面光学元件面形时使用。