全光纤斐索干涉共焦测量装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种用于微纳器件的表面形貌和层面厚度进行高精度测量的全光纤斐索干涉共焦测量装置,构成为:第一半导体激光器和第二半导体激光器的输出端分别和光纤合波器的第一端口、第二端口相连,该光纤合波器的第三端口和光纤导光元件的第一端口相连,该光纤导光元件的第三端口和探头光纤相连,该探头光纤上靠近输出端面写有第一光纤光栅,所述的第一光纤光栅的衍射光经自聚焦透镜照射在处于三维扫描平台上的待测样品上,所述的光纤导光元件的第二端口和光纤分束器的第一端口相连,该光纤分束器的第三端口和第四端口分别和第三光纤光栅及第二光纤光栅相连,第二光纤光栅的输出端和第一光电探测器相连,第三光纤光栅的输出端和第二光电探测器相连。

基本信息
专利标题 :
全光纤斐索干涉共焦测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720067317.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-02-13
授权号 :
CN201043884Y
授权日 :
2008-04-02
发明人 :
蔡海文陈高庭方祖捷
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
201800上海市800-211邮政信箱
代理机构 :
上海新天专利代理有限公司
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN200720067317.2
主分类号 :
G01B11/00
IPC分类号 :
G01B11/00  G01B11/02  G01B11/24  G01B11/06  G01B9/023  G02B6/34  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2009-04-08 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007213
2008-04-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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