一种半导体激光透过率分析系统
避免重复授权放弃专利权
摘要

本实用新型公开了一种半导体激光透过率分析系统,包括光发射单元、光接收单元和信号分析单元,所述光发射单元和光接收单元安装在被测介质的一侧或两侧;所述光发射单元包括半导体激光器、第一会聚透镜;所述第一会聚透镜相对半导体激光器的一端为斜面;所述半导体激光器与所述第一会聚透镜之间激光束主光线光程小于或等于7mm;所述第一会聚透镜的中间部分的A-A截面为任意几何形状,所述截面的最小覆盖圆的直径大于或等于25mm;所述半导体激光器发出的光通过所述第一会聚透镜后进入被测介质。本实用新型还公开了另外一种半导体激光透过率分析系统。

基本信息
专利标题 :
一种半导体激光透过率分析系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720112469.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-03
授权号 :
CN201075085Y
授权日 :
2008-06-18
发明人 :
熊志才顾海涛王健
申请人 :
聚光科技(杭州)有限公司
申请人地址 :
310052浙江省杭州市滨江区滨安路1180号3号楼2楼
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200720112469.X
主分类号 :
G01N21/39
IPC分类号 :
G01N21/39  G01N21/59  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应,例如原子吸收光谱术
G01N21/39
利用可调谐的激光器
法律状态
2011-01-12 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101060329153
IPC(主分类) : G01N 21/39
专利号 : ZL200720112469X
申请日 : 20070803
授权公告日 : 20080618
放弃生效日 : 20070803
2009-07-15 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 聚光科技(杭州)有限公司
变更后 : 聚光科技(杭州)有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 浙江省杭州市滨江区滨安路1180号3号楼2楼,邮编 : 310052
变更后 : 浙江省杭州市滨江区滨安路760号,邮编 : 310052
2008-06-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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