半导体激光器
发明专利申请公布后的驳回
摘要

减小穿透位错部的电流泄漏,由此,可得到静电耐压较高、应对电源电涌较强并且长期可靠性也较高的半导体激光器。该半导体激光器包括:具有位错密度为1×105cm-2以上的高位错区域的衬底;设置在衬底上且具有活性层的半导体晶体;设置在半导体晶体上的绝缘膜;表面电极,设置在绝缘膜上,为对活性层注入电流而与半导体晶体导通;设置在衬底下的背面电极,其中,将激光共振器长设为L时,表面电极的面积为120×Lμm2以下。

基本信息
专利标题 :
半导体激光器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101160700A
申请号 :
CN200680012137.2
公开(公告)日 :
2008-04-09
申请日 :
2006-03-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
藏本恭介
申请人 :
三菱电机株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
王岳
优先权 :
CN200680012137.2
主分类号 :
H01S5/042
IPC分类号 :
H01S5/042  
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法律状态
2012-03-21 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101304940580
IPC(主分类) : H01S 5/042
专利申请号 : 2006800121372
公开日 : 20080409
2008-06-04 :
实质审查的生效
2008-04-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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