多晶硅制造装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开的多晶硅制造装置,包括一腔体;位于所述的腔体内的坩埚,所述的坩埚用于装入硅;位于所述腔体内且设置在所述坩埚四周的隔热材料;设置在所述隔热材料内并位于所述的坩埚侧面的侧面加热器;其特征在于,在所述隔热材料内,且位于坩埚上方顶部的顶部加热器,所述侧面和顶部加热器对装入所述的坩埚内的硅进行加热;以及所述的侧面和顶部加热器与一控制电路连接,所述的控制电路控制所述的加热器的输出。本实用新型在使用坩埚制造具有单向凝固组织的硅锭时,通过控制电路能够对侧面和顶部加热器进行控制,保证坩埚底部的多晶硅开始凝固时,坩埚上部及顶部的多晶硅仍处于熔融状态,以有效实施单向凝固。

基本信息
专利标题 :
多晶硅制造装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820056087.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-11
授权号 :
CN201162064Y
授权日 :
2008-12-10
发明人 :
河野贵之贺贤汉
申请人 :
上海汉虹精密机械有限公司
申请人地址 :
200444上海市宝山区城市工业园区山连路188号
代理机构 :
上海天翔知识产权代理有限公司
代理人 :
吕伴
优先权 :
CN200820056087.4
主分类号 :
C30B28/06
IPC分类号 :
C30B28/06  C30B29/06  C30B11/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B28/00
制备具有一定结构的均匀多晶材料
C30B28/04
由液态制备
C30B28/06
正常凝固法或温度梯度凝固法
法律状态
2018-03-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C30B 28/06
申请日 : 20080311
授权公告日 : 20081210
终止日期 : 20170311
2011-01-05 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101058404566
IPC(主分类) : C30B 28/06
专利号 : ZL2008200560874
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海汉虹精密机械有限公司
变更后权利人 : 上海汉虹精密机械有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 200444 上海市宝山区城市工业园区山连路188号
变更后权利人 : 200444 上海市宝山城市工业园区山连路188号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 上海申和热磁电子有限公司
登记生效日 : 20101124
2008-12-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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