薄膜制备装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。本实用新型的装置中镀膜室由镀膜室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成，在真空壳体上设置有充气阀和观察窗，在底板上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩埚蒸发器、溅射靶以及干涉光源、摄像头，在固定架上设置有用旋转轴驱动的旋转托盘、样片退火加热器和其下底设置的用于固定制膜样片装置。
基本信息
专利标题 ：
薄膜制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820116753.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-05-21
授权号 ：
CN201305624Y
授权日 ：
2009-09-09
发明人 ：
宋长安彭应全宋毅朋兴平覃同
申请人 ：
兰州大学
申请人地址 ：
730030甘肃省兰州市天水南路222号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200820116753.9
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/24 C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2011-08-03 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101093507880
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2008201167539
申请日 : 20080521
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20100521
号牌文件序号 : 101093507880
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2008201167539
申请日 : 20080521
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20100521
2009-09-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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