薄膜制备设备

授权

摘要

本实用新型公开一种薄膜制备设备，其包括：反应腔室；竖直设置在所述反应腔室内的第一注入管，设置有多个沿所述第一注入管依次排列的第一注入孔；设置在所述反应腔室内的第二注入管，包括沿竖直方向延伸的第一管段，设置有多个沿所述第一管段依次排列的多个第二注入孔；第二管段，其一端连通于所述第一管段的顶端、其另一端用于通入第一反应气体；其中，所述第一注入管的底端用于通入第一反应气体。采用这种薄膜制备设备在多个晶圆上生成薄膜，位于反应腔室上部的晶圆和位于反应腔室底部的晶圆其表面上生长出的薄膜的厚度趋于一致。

基本信息

专利标题：

薄膜制备设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921666202.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-30

授权号：

CN210916247U

授权日：

2020-07-03

发明人：

郑耿豪

申请人：

长鑫存储技术有限公司

申请人地址：

安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司

代理人：

龙威壮

优先权：

CN201921666202.4

主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/455