一种薄膜制备设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种薄膜制备设备，镀膜室包括n个间隔排列的阴极靶、n个溅射电源、与阴极靶相对设置的基座、将每个阴极靶的镀膜区等分成n个沉积区的分区装置、控制装置，控制装置根据待制备薄膜n行m列个单元的膜厚数据、n个阴极靶的n个沉积区的沉积速率数据，计算出n个阴极靶在m个时间段的溅射功率，并根据计算结果控制对应的溅射电源具有相应的溅射功率，从而可以使得待制备薄膜的n行m列个单元中不同的单元具有不同的膜厚，进而可以根据实际情况灵活高效地制备n、m不同即膜厚分布不同的薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜制备设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020324905.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN211897090U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
吴历清籍龙占张晓岚谢丑相王国昌
申请人 ：
杭州朗旭新材料科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江江陵路88号万轮科技园9幢北楼803
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨华
优先权 ：
CN202020324905.5
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
