本实用新型是一种形成渐层薄膜厚度的真空镀膜装置，其是包含一溅镀腔体、一传动系统以及一溅镀源，所述的传动系统设置在所述的溅镀腔体的内部并包含一载具，所述的载具是可在所述的溅镀腔体的内部直线前进，所述的载具的顶面设有至少一个支撑件，所述的至少一个支撑件设有一固持部，所述的溅镀源设置在所述的溅镀腔体的内部一侧，其具有一靶材料，所述的靶材料表面与所述的至少一个支撑件的固持部直线前进时所画出的平面是呈一不等距离的配置，如此当固持部夹持固定一被镀物以进行镀覆靶材料时，可在被镀物表面形成厚度不一致渐层薄膜。