溅射薄膜的厚度均匀性修正装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种溅射薄膜的厚度均匀性修正装置，其构成包括修正块(1)和旋钮(2)，修正块(1)通过细杆(3)与旋钮(2)固定连接；所述的修正块(1)是由固定块(4)和活动块(5)两部分连接成一个整体，形成一个中间宽两头窄的偏平体。本实用新型可通过旋钮连续地手动或电动调整修正块的转动角度，以此对溅射原子流量分布进行修正，达到改善沉积薄膜厚度均匀性的目的；本实用新型具有结构简单、操作灵活、调节范围大、修正效果好等特点。

基本信息

专利标题：

溅射薄膜的厚度均匀性修正装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820301326.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-06-27

授权号：

CN201212059Y

授权日：

2009-03-25

发明人：

张平周瑞山谢强殷志茹张敏罗向阳龚漫莉叶萍张青张铎王倩龚国刚

申请人：

贵州振华云科电子有限公司

申请人地址：

550018贵州省贵阳市新添大道北段268-1号

代理机构：

贵阳中新专利商标事务所

代理人：

李大刚

优先权：

CN200820301326.8

主分类号：

C23C14/54

IPC分类号：

C23C14/54 C23C14/34