一种超薄薄膜真空双面溅射装置
实质审查的生效
摘要

一种超薄薄膜真空双面溅射装置,包括机体,所述机体的内腔右侧上下两部分别安装有放卷机和收卷机,所述机体的内腔中心处上下两部均安装有一组水冷却辊,所述每组每两个所述水冷却辊之间均设有张力控制单元,且最右侧水冷却辊与放卷机和收卷机之间设有张力控制单元,且张力控制单元安装于机体上,每个所述水冷却辊顶部两端均设有第一过渡辊。超薄薄膜真空双面溅射装置,通过压力控制单元的压力控制器对薄膜的张力进行感应与控制,在张力辊的作用下,进行对不同类型的薄膜进行张力控制,保证薄膜行走时的紧致程度,达到了在保证薄膜张力紧致的情况下,薄膜不会受损,镀膜过程也能平稳运行的效果,就算面对超薄的薄膜也可以进行镀膜。

基本信息
专利标题 :
一种超薄薄膜真空双面溅射装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481057A
申请号 :
CN202210165674.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王振东
申请人 :
王振东
申请人地址 :
辽宁省沈阳市大东区小什字街6-3号1-6-1
代理机构 :
沈阳天之冠专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
赵千慧
优先权 :
CN202210165674.1
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  C23C14/54  C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20220223
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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