用于真空溅射腔的防溅射结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于真空溅射腔的防溅射结构，包括底座和固定安装于所述底座上的固定架，所述底座和固定架之间设有绝缘板，所述防溅射结构还包括螺接于所述底座和固定架上的紧固螺丝，所述紧固螺丝与所述固定架之间设有绝缘套，所述固定架和所述紧固螺丝通过所述绝缘套绝缘；所述紧固螺丝外盖设有防护盖，所述防护盖用于密封隔绝所述紧固螺丝的裸露部分。本实用新型提供的用于真空溅射腔的防溅射结构，通过绝缘套和防护盖的设置，能够将用于固定连接底座和固定架的紧固螺丝进行密封隔绝，防止真空溅射腔内的溅射物附着于紧固螺丝上，以避免底座和固定架之间导通，从而确保磁控溅射工艺的顺利进行。
基本信息
专利标题 ：
用于真空溅射腔的防溅射结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122905456.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
CN216738510U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
朱飞鹏王龙郝波
申请人 ：
江苏日久光电股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市周庄镇锦周公路509号
代理机构 ：
苏州三英知识产权代理有限公司
代理人 ：
席勇
优先权 ：
CN202122905456.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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