一种用于玻璃检测的真空磁控溅射镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于玻璃检测的真空磁控溅射镀膜装置，包括输送机构、对位机构、纵向测量机构、横向测量机构，输送机构用于输送玻璃；对位机构用于对位于输送机构上的玻璃进行对位调整，对位机构包括驱动部件、对位组件，驱动部件与对位组件连接为其提供动力，对位机构具有初始状态和工作状态，当对位机构处于初始状态时，输送机构对玻璃进行输送；当对位机构处于工作状态时，对位组件能够在传送方向上对玻璃形成阻挡；纵向测量机构用于测量玻璃的长度尺寸，横向测量机构用于测量玻璃的宽度尺寸，玻璃的长度方向与玻璃传送方向一致。本实用新型提供的装置，可调正玻璃，防止玻璃偏移，调节精度高，检测得到的玻璃宽度、长度数据更准确。
基本信息
专利标题 ：
一种用于玻璃检测的真空磁控溅射镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122955524.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
CN216585184U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
吴壮余华骏田富解孝辉张青涛
申请人 ：
吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江经济开发区庞金路
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
樊晓娜
优先权 ：
CN202122955524.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56 G01B11/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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