可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及硬面光掩模基板制造领域以及光学玻璃加工领域，尤其是一种用于硬面光掩模基板制造过程中的承载清洗器具及其装配方法。其由槽口架(a1)、导向定位杆(a2)组合而成；所述的槽口架(a1)由槽口板(b1)、筋板(b3)通过固定件定位连接而成，在槽口板(b1)左右二面开有镜向对称槽(c1)和与对称槽(c1)垂直贯通的底部条形槽(c2)；在槽口板(b1)左右二面端部开有供定位安装导向定位杆(a2)的导向孔(k1)。本实用新型承载清洗器具具有通用性好，灵活方便，整体不易变形，清洗过程中不会出现水流阻挡现象，能有效提高工件的洁净度和操作功效。
基本信息
专利标题 ：
可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820150873.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-07-16
授权号 ：
CN201222166Y
授权日 ：
2009-04-15
发明人 ：
袁克文
申请人 ：
上海棱光实业股份有限公司
申请人地址 ：
200241上海市闵行区龙吴路4900号
代理机构 ：
上海新天专利代理有限公司
代理人 ：
徐伟奇
优先权 ：
CN200820150873.0
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 C03C19/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2012-09-12 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101325711094
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008201508730
申请日 : 20080716
授权公告日 : 20090415
终止日期 : 20110716
号牌文件序号 : 101325711094
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008201508730
申请日 : 20080716
授权公告日 : 20090415
终止日期 : 20110716
2009-04-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
