基于衍射的聚焦度量
授权
摘要
本发明提供能够通过覆盖测量工具实行敏感聚焦测量的基于衍射的聚焦目标单元、目标、及设计及测量方法。单元包括具有粗节距的周期性结构及以细节距布置的多个元件。所述粗节距是所述细节距的整数倍，其中所述细节距在一个设计规则节距与两个设计规则节距之间且小于测量分辨率，且所述粗节距大于所述测量分辨率。所述元件是不对称的以提供散射照明的+1衍射级及‑1衍射级中的不同振幅，且所述元件的子组具有大于可印刷性阈值的CD(临界尺寸)，且其它元件具有小于所述可印刷性阈值的CD。
基本信息
专利标题 ：
基于衍射的聚焦度量
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109844647A
申请号 ：
CN201780063522.8
公开（公告）日 ：
2019-06-04
申请日 ：
2017-06-02
授权号 ：
CN109844647B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
V·莱温斯基
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘丽楠
优先权 ：
CN201780063522.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 G03F1/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2019-11-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20170602
申请日 : 20170602
2019-06-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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