本发明提供一种光学临近修正前的预处理方法，属于微电子光学临近修正技术领域，包括：将原始目标图形输入预处理软件；扩展第一短边和第一邻边形成正交方向的第一矩形，扩展第二短边和第二邻边形成正交方向的第二矩形；通过预处理软件选定第三邻边，并将第三邻边向两端延长一预定长度后扩展第三邻边形成第三矩形；将第一矩形和第二矩形做逻辑和运算处理后得到第一图形，并将第一图形与第三矩形做逻辑非处理后得到第一多边形；将原始目标图形和第一多边形合并得到处理后目标图形。本发明的有益效果：可以针对性的填充斜边上的图形缺口，从而去除不利于光学临近修正的因素，使OPC结果更好的符合预期。