提高OPC修正精度的方法
授权
摘要
本发明提供一种提高OPC修正精度的方法，其以版图图形与修正图形之间的边缘定位误差作为依据对亚分辨率辅助图形的分布进行修改，添加或者移除亚分辨率辅助图形，提高了OPC修正精度，且改善了工艺窗口，满足了工艺需求。
基本信息
专利标题 ：
提高OPC修正精度的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112764308A
申请号 ：
CN201911075154.6
公开（公告）日 ：
2021-05-07
申请日 ：
2019-11-06
授权号 ：
CN112764308B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201911075154.6
主分类号 ：
G03F1/36
IPC分类号 ：
G03F1/36
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-05-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/36
申请日 : 20191106
申请日 : 20191106
2021-05-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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