一种溅射靶材基座
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种溅射靶材基座，包括底座，还包括可滑动地支撑在底座上的滑动组件以及沿着所述滑动组件的滑动方向支撑在滑动组件的上表面上的第一安装座和第二安装座，所述第一安装座和第二安装座用以对镀膜时需要的靶材进行固定，通过所述滑动组件能够使第一安装座上的靶材和第二安装座上的靶材交替地从镀膜工位移入和移出。该靶材基座具有两个安装座，在使用其中一个靶材基座上的靶材进行镀膜室，能够对另一个安装座上的靶材进行更换，提高了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种溅射靶材基座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920423140.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-01
授权号 ：
CN209722285U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
付秋平聂盛强刘渊罗军严伟
申请人 ：
贵阳学院
申请人地址 ：
贵州省贵阳市南明区见龙洞路103号贵阳学院
代理机构 ：
北京中济纬天专利代理有限公司
代理人 ：
郝志亮
优先权 ：
CN201920423140.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-03-11 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20190401
授权公告日 : 20191203
终止日期 : 20210401
申请日 : 20190401
授权公告日 : 20191203
终止日期 : 20210401
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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