一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域,具体地,涉及一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,包括有矩形的底座和加热装置,所述的底座的一端设置有矩形的卡槽,所述卡槽的一端设置有用于固定靶材的固定机构,加热装置包括有伸缩机构和加热机构,底座远离卡槽的一端设置有一根支撑柱,伸缩机构设置在支撑柱上,伸缩机构的输出端上设置有一块安装板,安装板的底部设置有旋转电机,电机的输出端延伸至安装板的另一侧,旋转电机的输出端连接有固定杆,固定杆的末端上固定连接有固定板,加热机构可拆卸安装在固定板上,所述加热机构为电阻丝发热板,本装置可以对靶材进行预热,防止靶材出现靶材开裂的情况。

基本信息
专利标题 :
一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920424011.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-01
授权号 :
CN209759574U
授权日 :
2019-12-10
发明人 :
付秋平严伟罗军刘渊聂盛强
申请人 :
贵阳学院
申请人地址 :
贵州省贵阳市南明区见龙洞路103号贵阳学院
代理机构 :
北京中济纬天专利代理有限公司
代理人 :
郝志亮
优先权 :
CN201920424011.0
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-03-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20190401
授权公告日 : 20191210
终止日期 : 20210401
2019-12-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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