一种靶材位置可调整的溅射靶材基座
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摘要
本实用新型公开了一种靶材位置可调整的溅射靶材基座，包括底座，所述底座上设有立柱，所述立柱的上端设有放置台，所述放置台上设有工件座，所述立柱上转动设有转筒，所述转筒上设有转盘，所述底座上设有驱动电机，所述驱动电机的输出轴设有主动齿轮，所述转筒上设有卡齿，所述转盘的两侧均设有弧形安装板，所述转盘上设有竖板，所述弧形安装板和竖板之间设有可移动的移动座，所述移动座的上方设有套筒，所述套筒内设有升降杆，所述升降杆的上端设有靶材固定座。本实用新型与现有技术相比的优点在于：靶材固定座位置可调，能够在镀膜的过程中根据靶材厚度的变化或者其它的加工需求实时调整靶材与工件之间的距离。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材位置可调整的溅射靶材基座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021896534.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN213507168U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
胥小勇颜建师涂培堤
申请人 ：
福建瓦能科技有限公司
申请人地址 ：
福建省三明市大田县石牌镇上坡村301号
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
李枝玲
优先权 ：
CN202021896534.4
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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