本实用新型提出了一种等温CVD法制备单晶热场产品的装炉结构，包括筒状的保温筒体，所述保温筒体由若干保温筒叠加形成，安装在炉筒底部设置的石墨料盘上，所述保温筒体内叠加若干导气装置；所述保温筒体顶端设有圆环形限气板，所述圆环形限气板的内环边沿与保温筒体的顶端连接，外环边沿与炉筒内壁连接；所述炉筒顶部连接石墨导气管，所述石墨导气管底部伸入顶部的导气装置内，且所述石墨导气管上设有若干气孔。本实用新型保证气体从坩埚和导流筒的间隙、坩埚和保温筒体间隙及导流筒内部均进行沉积，减少沉积距离，提高沉积效率；通过第一分气工装和第二分气工装的作用，提高导流筒底部距离坩埚内底的距离，增加气体流畅性，避免出现炭黑的现象。