一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置，包括旋转辊、镀膜室和氧化室，沿基材的输送方向，旋转辊的外侧依次设有镀膜室和氧化室，旋转辊内侧与氧化室的相对之处设有磁铁组件，磁铁组件中，任意相邻的两个磁铁之间，朝向氧化室的端部极性相反；氧化室内设有进气管，进气管与旋转辊之间连接有电池。本实用新型是在基材镀完氧化硅后，通过增加氧离子密度来加强膜层的氧化效果，从而提高膜层中氧化硅的纯度和膜层透明度，进而提高膜层的光学性能。
基本信息
专利标题 ：
一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920503557.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-12
授权号 ：
CN209798096U
授权日 ：
2019-12-17
发明人 ：
朱建明
申请人 ：
肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址 ：
广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
谢静娜
优先权 ：
CN201920503557.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2019-12-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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