一种卧式多层磁控镀膜复合CVD设备
授权
摘要
本实用新型公开一种卧式多层磁控镀膜复合CVD设备，涉及卷对卷CVD薄膜生长设备领域。该CVD设备包括设备框架，设备框架的顶部设有放卷机构、结构阀三、结构阀二、结构阀一、收卷机构、第一射频腔体、第二射频腔体、温区一、温区二；工作时采用收卷轴与放卷轴联动，经过第一射频腔体与第二射频腔体的磁控溅射，借助射频控制仪先将靶材激发溅射到基材上形成一层金属薄膜，再经两温区沉积形成由原料气体制得的纳米薄膜，可在基材上连续覆膜，得到金属薄膜夹纳米薄膜形式的复合薄膜，该CVD设备可以连续、快速、高效地制备大面积、高质量金属薄膜夹纳米薄膜形式的复合薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种卧式多层磁控镀膜复合CVD设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921171287.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-24
授权号 ：
CN210420149U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
孔令杰荣华虹李明李松
申请人 ：
合肥百思新材料研究院有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市巢湖经济开发区和平大道与秀湖路交叉口西北角
代理机构 ：
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
胡剑辉
优先权 ：
CN201921171287.9
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35 C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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