一种靶材浇铸设备
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摘要
本实用新型涉及一种靶材浇铸设备，包括分开相对设置的第一底板和第二底板、以及夹紧设置在所述第一底板和所述第二底板之间的模具，其中，所述模具包括内管与外管，在所述内管与所述外管之间形成浇铸空间；所述第一底板包括第一板状主体，在所述第一板状主体的一侧端面精加工出分别与所述内管与所述外管一端对应的第一定位槽和第二定位槽；所述第二底板包括第二板状主体，在所述第二板状主体的一侧端面精加出分别与所述内管与所述外管另一端对应的第三定位槽和第四定位槽；所述第一底板和/或所述第二底板上设置有与所述浇铸空间连通的浇铸通道，运用该靶材浇铸设备浇铸出的产品壁厚均匀，统一性好。且该靶材浇铸设备可重复利用，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材浇铸设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920544227.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-19
授权号 ：
CN210237757U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
黄勇彪林文宝刘海燕李宝英
申请人 ：
深圳市众诚达应用材料科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道上村社区莲塘工业城C区第39栋一楼
代理机构 ：
深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)
代理人 ：
林俭良
优先权 ：
CN201920544227.0
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B22C9/22
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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