一种真空镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括真空腔体，所述真空腔体顶部设置有第一旋转机构，该第一旋转机构连接有支架以带动支架以竖直方向为轴心旋转，所述支架上设置有第二旋转机构，该第二旋转机构连接有横杆以带动横杆以水平方向为轴心旋转，所述横杆上设置有通孔，该通孔内设置有用于固定的夹具，所述支架的下方设置有旋转台，所述旋转台上设置有至少一个镀膜装置，本实用新型一次装夹可对产品多个面进行镀膜，提高了生产效率，降低了因多次装夹造成产品的损坏，同时多角度全方位的旋转使产品镀膜更加均匀，旋转台带动镀膜装置旋转能够使膜料分子散发得更加均匀，进一步使产品镀膜更加均匀，提高产品的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920575739.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-25
授权号 ：
CN209816268U
授权日 ：
2019-12-20
发明人 ：
郑潜武
申请人 ：
珠海众睿诚科技有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市高新区唐家湾镇金鼎科技工业园金恒二路16号厂房B栋1楼B区
代理机构 ：
北京轻创知识产权代理有限公司
代理人 ：
谈杰
优先权 ：
CN201920575739.3
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2019-12-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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